Оборудование полупроводниковой промышленности

Литография оптическая

Оптическая литография, имеющая типичные скорости экспонирования в пределах 10-100 см2/с, практически полностью удовлетворяет требования массового производства. Этот метод литографии является самым надежным и проверенным методом переноса изображения с маски на фоторезистивный слой. Инновационная оптическая система, реализованная в оборудовании компании OAI и/или система видеокамер, обеспечивают беспрецедентно высокое разрешение для подобных установок: менее 0,5 мкм. Широкий выбор методов совмещения: мягкий, плотный, вакуумный и с микро-зазором позволяют пользователю подобрать оптимальный режим работы в зависимости от технических и технологических требований.

Пересчитать
x