KLOE

На сегодняшний день компания KLOE SA занимает лидирующие позиции в производстве лазерных литографических систем с технологией «прямого письма».

15-летний опыт компании в области обработки УФ лазерами с минимальными элементами топологии в несколько сотен нанометров, обеспечивает Заказчика высокотехнологичными решениями с превосходной воспроизводимостью процесса. На сегодняшний день экспонирование под УФ - излучением находит широкое применение в микрофлюидике, микроэлектронике, фотонике, микромеханике, в области структурирования с высоким аспектным соотношением (1x40) и т.д. Кроме того технология KLOE идеально подходит для быстрого прототипирования в области микроэлектроники, оптики, биотехнологий и других отраслей промышленности.