Технология утилизации отработанных технологических газов основана на термически стимулированной химической реакции отработанного технологического газа с многокомпонентным наполнителем картриджа адсорбера с образованием нейтральных химических соединений. Данная технология применима для большого количества технологических газов и является минимально энергозатратной при эксплуатации. Наличие специальных картриджей для определенных газов (арсин, аммиак) позволяют существенно повысить суммарный объем очистки отработанных технологических газовых смесей. Послойное заполнение картриджа неорганическими реагентами и автоматическое поддержание постоянной температурной зоны внутри адсорбера обеспечивают гарантированное протекание химической реакции при потоках газовых смесей не превышающих допустимые и невозможность последующей десорбции опасных газов из отработанного картриджа. Заполненный картридж подлежит утилизации в качестве твердого промышленного отхода, за исключением JY-типа, применяемого для утилизации арсина. Картриджи, содержащие оксиды мышьяка подлежат утилизации в соответствии с правилами утилизации отходов мышьяка установленными в РФ.

Функциональные особенности систем:

• Минимальная занимаемая площадь;
• Простота эксплуатации;
• Опция нагрева входных магистралей для предотвращения их блокировки легкоконденсирующимися газами;
• Различные входные размеры для картриджей специального применения не допускают возможности их неправильного использования;
• Ввод в зону реакции кислорода воздуха в качестве катализатора химической реакции при очистке отработанных газов применяемых в ионной имплантации (модель М150i);
• Встроенная система мониторинга состояния картриджа и простое устройство управления и отображения информации;
• Встроенный сетевой интерфейс с поддержкой Ethernet протоколов для организации удаленного мониторинга системы и ее связи с технологическим оборудованием;
• Система GRC M150i имеет специальное устройство создающее пониженное давление в форвакуумной магистрали для обеспечения принудительного протока отработанных технологических газов после процессов ионной имплантации через систему очистки.
• Соответствие сертификатам: CE, SEMI.

Инсталляционные требования:

• Температура окружающей среды: 5 - 40˚С;
• Влажность: 30-95%;
• Вытяжная вентиляция: не менее 200 м³/час;
• Азот газообразный: 2,5 - 3,0 атм., 5 л/мин;
• Сжатый воздух (для пневматики): 5 – 6 атм;
• Дополнительно сжатый воздух (для опции i) – 3 л/мин.