Каталог вакуумного оборудования

Биполярные импульсные источники питания E'Wave

Источники питания E'Wave дают высокую равномерность поверхности и сокращают загрязнения пленок при медной гальванике и DDPF (dual-damascene process flow - двойное нанесение канавок из металла (например, меди) на диэлектрике), включая гальванику на подложках. Источники питания E'Wave могут обеспечивать до трех каналов, каждый из которых независимо управляется биполярным источником. E'Wave может воспроизводить и запоминать до 15 форм волны, контролируемых по силе тока или напряжению.

Преимущества использования E'Wave:

  • Удержание тока на минимуме между импульсами (отсутствие шумов)
  • Отличная равномерность пленок
  • Уменьшение загрязнений
  • Контроль и мониторинг мощности
  • Пониженные требования к классу чистых комнат
  • Различные опции для удобной установки

Возможности E'Wave:

  • Оптимизированная конструкция
  • До трех независимо контролируемых каналов
  • Биполярный выход, от 0 до 5 кГц
  • Возможность подачи большой силы тока
  • Четырехтерминальный контроль и замеры напряжения на подложке
  • Интерфейс "host port"
  • Компактный размер

http://www.advanced-energy.com/en/EWave.html


Пересчитать
x