Оборудование полупроводниковой промышленности

Рост нанотрубок

Системы Nanofab700 и Nanofab800Agile позволяют выращивать нанотрубки и нанопровода с высокой скоростью роста и прецизионным контролем условий роста. Системы созданы на основе серии PlasmaPro system 100. Основным достоинством серии Nanofab является использование теплостойких материалов c низкой теплоемкостью, устойчивых к температурным перепадам. Скорость нагрева подложкодержателя установки Nonofab 800 Agile достигают 130 °С/мин. Столь высокий показатель достигнут благодаря использованию специально сконструированного элемента нагревателя на базе PBN технологии.

Системы серии Nanofab позволяют проводить процессы формирования островов роста и плазменной активации катализаторов роста нанотрубок.

Контроль скорости роста, направленния роста и диаметра нанотрубок достигается одновременным варьированием температуры электрода, частоты возбуждения плазмы и мощности, вкладываемой в разряд.

Системы серии Nanofab поддерживают стандартные процессы PECVD осаждения аморфного кремния и оксидов, нитридов кремния.

Основной модуль установки Nanofab полностью совместим по стандарту MESC. Поэтому модули Nanofab могут использоваться в кластерной системе серии System 100 Pro или других кластерных системах совместимых со стандартом MESC.

Конфигурации Nanofab для осаждения

 Nanofab 700NanoFab 800 Agile
Загрузкашлюз
Подложкидо 200 мм
Возбуждение плазмыВЧ/НЧ опция
Совместимость со стандартными PECVD процессамида, при заказе соответствующих линий подачи газов
Подача жидких прекурсоровопция
Диапазон температур подложки+100±650°С+200±800°С
Скорость нагрева подложкодержателядо 15 °С/миндо 130 °С/мин
Неоднородность температуры по подложке 200 мм±3°C±5°C
Совместимость с процессами в O2до 650°Сдо 400°С
Линий газоподачи с РРГдо 8 (12)
Плазменная очистка камерыопция
Вакуумная системанасос Рутса/ТМН опция
УправлениеPC2000

Дополнительная информация по системам доступна на сайте www.plasmasystem.ru


Пересчитать
x