Oxford Instruments Plasma Technology предлагает уникальное семейство плазмохимических установок для решения задач реверсивной инженерии и анализа отказов микроэлектронных приборов.

Установки серии PlsamaPro FA предоставляют возможность проведения всего спектра процессов: от удаления пассивирующих слоев до удаления анизотропных оксидных слоев; исследования как отдельных кристаллов и радиоэлектронных приборов в корпусе, так и 300 мм пластин.

Реализуемые плазмохимические процессы включают:

• Изотропное удаление полиимидов (режим RIE);
• Изотропное удаление пассивирующих слоев нитридов (режим PE);
• Анизотропное удаление межслоевых и изолирующих диэлектриков (IMD/ILD) (режим RIE или ICP);
• удаление металлического каркаса (режим RIE или ICP;)
• удаление поли-Si (режим RIE);
• удаление Al и Cu (режим ICP);
• удаление обратной стороны объемного Si (режим ICP).

Дополнительная информация по системам доступна на сайте www.plasmasystem.ru