Оборудование полупроводниковой промышленности

Литография лазерная

Основным преимуществом данного метода литографии является отсутствие необходимости предварительного изготовления масок и связанных с ними операция очистки и замены пришедших в негодность. Использование стандартных графических программ позволяет упростить процедуру изготовления проекта топологии до минимума. Еще одним достоинством технологии является возможность непосредственно в слое резиста формировать 3D структуры, изменяя мощность лазерного луча. В целом данный тип оборудования является достойной заменой с одной стороны оборудования работающего, на основе оптической литографии и электронно-лучевой более дорогой литографии с другой стороны.

Пересчитать
x