Оборудование полупроводниковой промышленности

Атомно-слоевое осаждение

Атомно-слоевое осаждение (ALD) это современная техника прецизионного осаждения ультратонких слоев с конформным покрытием рельефа для приложений субмикронной технологии и передовых исследований в области наноразмерных структур. OpAL и FlexAL представляют собой гибкие и функциональные установки атомно слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition или ALD) с возможностью проведения процессов плазменного осаждения (Remote Plasma ALD).

Дополнительная информация по системам доступна на сайте www.plasmasystem.ru


Пересчитать
x